TSMC با نمایش دستاوردهایش برای صنعت تراشه خط‌و‌نشان کشید
TSMC، بزرگ‌ترین تولیدکننده‌ی قراردادی تراشه در دنیا، کنفرانسی در ژاپن برگزار کرد تا جدیدترین تحولات لیتوگرافی سه‌نانومتری N3E را به‌نمایش بگذارد. این شرکت نقشه‌ی راه لیتوگرافی دونانومتری N2 را ارنیز ائه داد.
کوین ژانگ، قائم‌مقام ارشد شرکت تی‌اس‌ام‌سی، گفت این شرکت در سال مالی ۲۰۲۲ بیش از ۵٫۴ میلیارد دلار سرمایه‌گذاری کرده و تعداد کارکنان فعال را به ۸٬۵۵۸ نفر رسانده است.
TSMC جزئیات پیشرفت‌های هر نسخه از لیتوگرافی پنج‌نانومتری را نیز ارائه کرد. این شرکت افزون‌بر N5P و N4 و N4P، لیتوگرافی N4X را نیز دارد. N4X درمقایسه‌با N5 نزدیک به ۱۷ درصد قدرت پردازشی بیشتر و ۶ درصد تراکم بیشتر است. N5 سه سال پیش روانه‌ی بازار شد.
بر‌اساس گزارش Wccftech، شرکت TSMC تأکید کرد که تولید انبوه پردازنده‌های سه‌نانومتری را از ابتدای سال ۲۰۲۳ شروع کرده است؛ با‌این‌حال، نسخه‌ی بهبودیافته یعنی N3E تا نیمه‌ی دوم ۲۰۲۳ دردسترس قرار نمی‌گیرد.
N3P، یکی از نسخه‌های پیشرفته‌ی لیتوگرافی سه‌نانومتری، در سال ۲۰۲۴ وارد خط‌تولید می‌شود و قدرت پردازشی را ۵ درصد افزایش و مصرف انرژی را ۵ تا ۱۰ درصد کاهش می‌دهد و تراکم تراشه‌های مبتنی‌بر N3P درحدود ۱٫۰۴ برابر بیشتر از N3E خواهد بود.
به‌دلیل افزایش شدید تقاضای صنعت خودرو، TSMC قصد دارد لیتوگرافی N3AE را نیز دردسترس قرار دهد. N3AE مبتنی‌بر N3 است و به‌طور ویژه برای پردازش‌های خودرو بهینه شده.
شرکت تایوانی TSMC در سال ۲۰۲۵ سراغ لیتوگرافی موردانتظار دونانومتری می‌رود. TSMC در این لیتوگرافی از فناوری نانوصفحه استفاده و با ترانزیستورهای FinFET خداحافظی می‌کند.
N2 درمقایسه‌با N3E به‌میزان ۱۰ تا ۱۵ درصد قدرت پردازشی را افزایش و ۲۵ تا ۳۰ درصد مصرف انرژی را کاهش می‌دهد. تراشه‌های مبتنی‌بر N2 تقریباً ۱٫۱۵ برابر تراکم ترانزیستور بیشتر خواهند داشت.